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产品名称: VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

上架时间: 2021-09-01

产品编号: 03050101

浏览次数: 104

技术参数
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。

产品名称 VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
产品型号
VTC-600-2HD
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带?6mm双卡套接头)及减压阀
4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通风装置:需要
主要参数
1、电源电压:220V  50Hz
2、功率:<2KW(不含真空泵)
3、极限真空度:9.0×10-4Pa
4、样品台加热温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
5、靶枪数量:2个(可选配其他数量)
6、靶枪冷却方式:水冷
7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W;射频溅射功率:300W。

(靶电源种类可选,可选择两个直流电源,也可选择两个射频电源,或选则一个直流一个射频电源)

9、载样台:?140mm,可根据客户需求选配加装偏压功能,以实现更高质量的镀膜。
10、载样台转速:1rpm-20rpm内可调
11、工作气体:Ar等惰性气体
12、进气气路:质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。
产品规格

1、主机尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、真空室规格:φ300×300mm
4、重量:160kg

标准配件 1直流电源控制系统1套
2射频电源控制系统1套
3膜厚监测仪系统1套
4分子泵(德国进口)1台
5冷水机1台
6冷却水管(?6mm)4根
可选配件 金、铟、银、铂等各种靶材

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